Высокая интенсивность ультрафиолетового излучения

Thu, 25 Jun 2026 12:07:01 +0800

На производственном станке процесс отверждения с использованием УФ-ламп не является процедурой, которую можно настроить один раз и забыть о ней. Это постоянный баланс между мощностью лампы и способностью станка подавать электроэнергию. Когда мощность лампы не соответствует параметрам станка, возникает несоответствие в спектре излучения, нестабильная интенсивность излучения, а процесс отверждения меняется при изменении скорости работы станка. Это приводит к ненадежному процессу связывания компонентов, проблемам с адгезией и непланируемым простоям.

Что имеет значение с технической точки зрения

Мы создаем высокоинтенсивные УФ-системы на основе ртутных ламп, предназначенных для обеспечения стабильности дуги. Фактически контролируемым параметром является электрическое напряжение: внутренние параметры напряжения и тока определяют температуру дуги, что влияет на спектр излучения и интенсивность излучения. Если выбрать лампу, соответствующую характеристикам мощности станка, то можно контролировать количество излучения на поверхности материала — измеряемое в мДж/см². Используются отражатели с дихроическим покрытием для сохранения нужного спектра излучения (365 нм, 385 нм, 405 нм) и обеспечения стабильности энергии излучения на всей поверхности материала.

Излучение on UV Light Mall

Высокая интенсивность ультрафиолетового излучения